CVD爐
工藝目的:
特殊物料(含溶劑、易燃易爆物、易氧化)在高溫煅燒過(guò)程中,為了降低爆炸燃燒風(fēng)險或為了滿(mǎn)足特殊工藝需求,將惰性氣體作為保護性氣氛(通常為氮氣)通入回轉窯中,代替空氣作為加熱介質(zhì)。通過(guò)在線(xiàn)監測的氧含量測定儀,控制氣氛爐內的氧含量,整套設備采用間接式加熱,密閉性好,無(wú)氣體及粉塵外泄。
煅燒溫度:100℃—1050℃
加熱形式:間接式天然氣/電加熱
運行方式:連續進(jìn)料連續出料
保護氣氛:氮氣
特點(diǎn):
本化學(xué)氣相沉積爐采用多溫區控溫,溫度均勻性好;
本化學(xué)氣相沉積爐采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
本化學(xué)氣相沉積爐采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;
本化學(xué)氣相沉積爐對炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進(jìn)行有效處理。
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